케이씨텍(281820)은 반도체, 디스플레이 장비와 소재를 공급하는 기업이다. 반도체 장비에는 여러 가지가 있는데, 일단 반도체용 전공정 장비로는 웨이퍼 평탄화 공정에 적용되는 화학처리기계연마(CMP)장비와 반도체 웨이퍼 상의 불순물을 제거하는 웨이퍼 클리너가 있다. 디스플레이 전공정 장비로는 에칭, 스트리퍼, 클리너 등 화학 습식장비와 건식 세정기 장비가 있다.
반도체 장비 부문 기술이 점차 업그레이드되면서 공정에도 변화가 생기고 있다. 케이씨텍 장비 사업은 이러한 변화로부터 수혜를 입을 것으로 기대된다. 최근 반도체 공정 안에서는 CMP 장비의 중요성이 커지고 있다. CMP공정은 반도체 웨이퍼 표면을 연마해 평탄화하는 작업이다. 웨이퍼가 생산되기까지 최대 수십 번의 CMP공정을 거쳐야 한다. CMP장비는 케이씨텍의 가장 주력 장비 중 하나인 만큼 이 회사를 주목할 수밖에 없다.
또한 반도체 미세화 추세에 따라 미세화 경쟁에서 살아남을 수 있는 기술을 가진 기업을 주목해야한다. 반도체 미세화 경쟁에서 반도체 소자의 구조는 더 복잡해질 전망이고, 반도체 미세화 공정에서 웨이퍼 평탄화 작업과 불순물 제거 세정작업 중요도도 높아지고 있다. CMP 공정의 적용 범위가 확대됨에 따라 관련주의 기대감은 커질 수밖에 없다. 올해 실적 성장을 본다면 연말까지 충분히 상승추세를 유지 할 것으로 전망한다.
삼성전자(005930)는 평택 극자외선(EUV)라인에 설비투자를 확대할 예정이다. 여기에도 CMP 장비가 공급될 것으로 보인다. 앞으로 낸드플래시와 파운드리 사업에도 반도체 적층을 높이고, 공정 미세화는 더욱 강화될 것이다. 따라서 웨이퍼 CMP 장비 수요는 더욱 증가할 것이다. 삼성전자뿐 아니라
SK하이닉스(000660) 우시공장과 이천M16공장에도 D램과 낸드플래시 설비에 EUV 공정이 포함 된다. 호재는 무궁무진하다. 반도체 업황이 좋아지고 반도체 공정이 세분화되고 특히 반도체 미세공정 기술이 성장할수록 반도체 장비 기업은 더 주목받는다. 특히 케이씨텍은 D램과 낸드용 CMP장비를 모두 만드는 만큼 반도체 투자 사이클에 큰 수혜가 될 것으로 전망한다.
CMP 장비 공급 이후에는 평탄화 CMP작업에 치약과 같은 연마제 CMP 슬러리(Slurry) 소재가 필요한데, 케이씨텍의 슬러리 매출은 연평균 10% 이상 성장을 기록하고 있다.
반도체 장비 이외에 디스플레이 매출에서는 상반기 보다 하반기를 기대해볼 수 있다. 상반기 지연되었던 유기발광다이오드(OLED) 설비투자가 하반기에 진행 될 것으로 보이는 가운데, 케이씨텍은 디스플레이 제조용 전공정 장비를 LG디스플레이를 비롯해 다수 중국 기업들과 공급계약을 체결하기로 했다. LG디스플레이는 최근 LCD 공정에서 OLED 전환을 계획하고 있다. 디스플레이 패널이 LCD에서 OLED로 전환되면서 디스플레이에서는 대면화 작업이 중요해졌다. 그러면 디스플레이 평탄화 작업과 세정 작업이 보다 중요한 공정이 된다. 케이씨텍은 건식방식과 습식방식 2가지 형태로 기판 표면의 오염물을 제거하는 세정 장비를 공급한다. 앞으로 중국에서 OLED 패널에 대규모 투자가 이어질 것으로 예상되는 가운데 케이씨텍의 장비 수주 기대와 실적 성장을 기대해볼 수 있겠다.
케이씨텍은 올해 사상최대 실적 경신을 목표로 하고 있다. 반도체. 디스플레이 투자 사이클이 하반기 본격화 될 것으로 전년대비 30% 증가한 3400억 규모 매출과 영업이익 30% 늘어난 650억 규모를 추정한다.
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그래프/뉴스토마토
이광무 주식전문가
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