에스앤에스텍, 블랭크마스크 및 포토마스크 제조법 특허 취득 공유하기 X 페이스북 트위터 URL복사 복사 2013-08-05 13:21:04 ㅣ 2013-08-05 13:24:29 [뉴스토마토 이한승기자] 에스앤에스텍(101490)은 대면적 투과제어 블랭크마스크 및 이를 이용한 대면적 투과제어 포토마스크의 제조방법 관련 특허권을 취득했다고 5일 공시했다. 회사는 이번 특허를 통해 대면적 TM 블랭크 마스크 및 포토 마스크 제품에 대한 기술경쟁력 향상 및 회사의 새로운 성장동력이 될 것으로 전망했다. ⓒ 맛있는 뉴스토마토, 무단 전재 - 재배포 금지 관련기사 소프트포럼, 신주인수권 행사가액 3327원으로 하향 조정 한전산업, 180억 규모 연료환경설비 용역 계약 윈포넷, 2분기 영업익 8.8억..전년比 3.2%↑ 미래나노텍, 터치스크린 패널용 배선전극 특허권 취득 이한승 뉴스북 이 기자의 최신글 0/300 댓글 0 추천순 추천순 최신순 반대순 답글순 필터있음 필터있음필터없음 답댓글 보기3 0/0 댓글 더보기 뉴스리듬 이 시간 주요 뉴스 인기 뉴스 함께 볼만한 뉴스